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NurtureSystem No. 3 - Rapid Recovery alocasia gut durchlässiges Substrat (z

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Description

gut durchlässiges Substrat (z

gut durchlässig (z

Temperatur: Optimal sind 18–26°C

wo sie epiphytisch oder terrestrisch in feucht-schattigen Umgebungen wächst

NurtureSystem No. 3 - Rapid Recovery alocasia gut durchlässiges Substrat (zWas ist das Besondere? NurtureSystem RapidRecovery beschleunigt die Pflanzenregeneration nach Transport , Vermehrungs oder stressbedingten Schden. Es wirkt als Katalysator fr massives Wurzelwachstum und hilft Pflanzen, sich schnell und effizient von Stress zu erholen. RapidRecovery hilft Pflanzen, den Transportschock und den Transplantationsstress durch das Umtopfen zu berwinden, und minimiert so die Zeit, die fr die Regeneration und Erholung bentigt

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